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Local Scrubber

前置处理剧毒及易燃易爆等有害废气

设计功能

前置处理CVD/ETCH/IMP/DIEF/EPI等工艺机台在制程中排出的剧毒、易燃易爆及温室气体等有害气体。经处理的废气进入后段有毒、酸碱等系统进行二次处理,实现达标排放。

 

适用废气

适用于泛半导体工业制程废气前端处理领域,含氟、氯、硅、氮、氢等元素为代表的温室气体,以及剧毒性、易燃性有害气体。

 

工艺原理

工艺机台产生的有害废气经真空管道及附属工艺真空设备,被导入LOCAL SCRUBBER内部反应腔,进行燃烧或高温分解。经燃烧或高温分解后的附产物,进入后序装置进行二次处理(干式吸附除外),从而达到安全可靠集中收集、集中处理的目的。

 

系统优势

高效处理大容量 SiH4,H2,NH3,PFCs等有害废气;根据所处工艺状态点,自动适配最佳功率;三挡功率模式自动切换,极速升降温,最大限度缩短预热、保养用时,增加投入运营时间。

 

盛剑系统服务

盛剑同时提供后序酸碱系统、有毒系统等中央系统服务,实现从本地处理到最终达标排放的系统解决方案。